在柔性基材上鍍氧化物光學(xué)膜的方法和光學(xué)復(fù)合部件

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111302460.6 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114214595A 公開(kāi)（公告）日 2022-03-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN114214595A 申請(qǐng)公布日 2022-03-22
分類號(hào) C23C14/35（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/10（2006.01）I;C23C14/20（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 楊鵬;張俊峰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 萬(wàn)津?qū)崢I(yè)（赤壁）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 黎金娣
地址 437300湖北省咸寧市赤壁市中伙光谷產(chǎn)業(yè)園縱5路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種在柔性基材上鍍氧化物光學(xué)膜的方法和光學(xué)復(fù)合部件。該方法包括：S1通過(guò)磁控濺射的方式，在柔性基材上沉積碳膜，碳膜包含間隔分布的碳顆粒；S2通過(guò)磁控濺射的方式，在碳膜上沉積單質(zhì)膜；S3對(duì)碳膜和單質(zhì)膜進(jìn)行氧化，分別得到碳氧化物氣體和固體氧化物；S4去除碳氧化物氣體，制得具有多孔結(jié)構(gòu)的氧化物光學(xué)膜。本發(fā)明巧妙地在制備方法中引入過(guò)程物碳，引入孔洞，使最終制得的氧化物膜層具有疏松的多孔結(jié)構(gòu)，不易脫膜，該方法產(chǎn)能大，效率高。