一種提高石墨烯質(zhì)量的沉積設(shè)備及方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910216035.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN109763113A 公開(kāi)（公告）日 2019-05-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN109763113A 申請(qǐng)公布日 2019-05-17
分類號(hào) C23C16/26（2006.01）I; C23C16/46（2006.01）I; C23C16/455（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 董國(guó)材; 劉玉菲; 張金龍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 常州碳維納米科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 213000 江蘇省常州市江蘇武進(jìn)經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)騰龍路2號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種提高石墨烯質(zhì)量的沉積設(shè)備及方法，通過(guò)新設(shè)計(jì)的基底加熱裝置及布?xì)夂?，基底加熱裝置通過(guò)邊緣補(bǔ)償設(shè)計(jì)有效提高了溫度的均勻性及目標(biāo)溫度控制的準(zhǔn)確性，通過(guò)設(shè)置在布?xì)夂械撞康呐艢饪?，將氣體均勻分布到所述反應(yīng)區(qū)中，進(jìn)而均勻分布在立于所述反應(yīng)區(qū)內(nèi)的基片表面，提高所述基片表面沉積的薄膜的均勻性。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低、易于實(shí)現(xiàn)。