一種制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積設備及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910056150.7 申請日 -
公開（公告）號 CN109487229A 公開（公告）日 2019-03-19
申請公布號 CN109487229A 申請公布日 2019-03-19
分類號 C23C16/26（2006.01）I; C23C16/455（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 董國材; 張祥; 張金龍 申請（專利權）人 常州碳維納米科技有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 213000 江蘇省常州市武進區(qū)騰龍路2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積設備及方法，不僅包括反應腔和布氣盒，通過設置在布氣盒底部的排氣孔，將氣體均勻分布到所述反應區(qū)中，進而均勻分布在立于所述反應區(qū)內的基片表面，提高所述基片表面沉積的薄膜的均勻性。通過先制備具有基底硅單晶的取向的金屬薄膜，進而制備具有相同取向的石墨烯，所制備的石墨烯將具有單晶性質。