一種石墨烯六角氮化硼（h-BN）復合薄膜的制備方法及其裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910235142.9 申請日 -
公開（公告）號 CN109763114A 公開（公告）日 2019-05-17
申請公布號 CN109763114A 申請公布日 2019-05-17
分類號 C23C16/34（2006.01）I; C23C16/44（2006.01）I; C23C16/455（2006.01）I; C23C16/26（2006.01）I; C23C28/00（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 董國材; 劉玉菲; 張金龍 申請（專利權）人 常州碳維納米科技有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 213000 江蘇省常州市江蘇武進經濟開發(fā)區(qū)騰龍路2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種石墨烯六角氮化硼（h?BN）復合薄膜的制備方法及其裝置，所述裝置包括主腔室、進樣室、加熱裝置、傳樣桿、供氣裝置、樣品托、插板閥及抽氣裝置。其中主腔室用于薄膜材料的制備，進樣室用于制備襯底的準備。本發(fā)明采用不銹鋼腔壁，使用分子泵+機械泵的抽氣裝置，本底真空可達到10?8mbar，充分減少雜質氣體分子對生長過程造成的影響。采用的內加熱方式，不僅能降低能耗，提高恒溫區(qū)均勻性，可以對降溫速度進行控制，進而控制可降溫過程中碳原子的析出，形成高質量的石墨烯薄膜，可以高效、節(jié)能的制備石墨烯六角氮化硼（h?BN）復合薄膜。