復(fù)合激光晶體的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011575239.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112795987A | 公開(公告)日 | 2021-05-14 |
申請公布號 | CN112795987A | 申請公布日 | 2021-05-14 |
分類號 | C30B33/06;C30B33/02;C30B29/28;C30B7/14 | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 梁杰通;李興旺;楊宇;李湧江;蘆佳;王永國 | 申請(專利權(quán))人 | 北京雷生強式科技有限責(zé)任公司 |
代理機構(gòu) | 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 孔德月 |
地址 | 100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋路4號11所南門 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種復(fù)合激光晶體的制備方法,屬于激光晶體領(lǐng)域。該方法包括:提供晶種和鍵合原料,晶種用于形成復(fù)合激光晶體的第一層,鍵合原料用于形成復(fù)合激光晶體的第二層,第一層和第二層中的一個作為增益介質(zhì)層,另一個作為功能支撐層;提供反應(yīng)釜,反應(yīng)釜內(nèi)部具有低溫區(qū)和高溫區(qū),使晶種位于低溫區(qū)以及使鍵合原料位于高溫區(qū);在礦化劑溶液氛圍下,使鍵合原料溶解并通過礦化劑溶液轉(zhuǎn)移至晶種的鍵合面上進行生長,在晶種的鍵合面上形成復(fù)合激光晶體的第二層,制備得到復(fù)合激光晶體,其界面結(jié)合強度高、損耗低,光學(xué)質(zhì)量高。 |
