高速濺鍍裝置及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> TW097118953 申請日 -
公開（公告）號 TWI433954B 公開（公告）日 2014-04-11
申請公布號 TWI433954B 申請公布日 2014-04-11
分類號 C23C14/35;C23C14/34 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 丹尼斯　赫拉斯 申請（專利權）人 金江水力發(fā)電集團有限公司
代理機構 陳長文 代理人 漢能控股集團有限公司
地址 中國大陸 CN
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種濺鍍方法，其包括使一靶支撐體之一表面曝露於一靶材料流，使得該曝露導致在處於一第一位置之該靶支撐體之該表面上凝結該靶材料，并從處於一第二位置之該靶支撐體之該表面將該經(jīng)凝結的靶材料濺鍍至一基板，其中在該濺鍍期間，處於該第二位置之該靶支撐體之該表面未曝露於該經(jīng)蒸發(fā)的靶材料流。本發(fā)明亦提供一種濺鍍靶單元。該濺鍍方法及該濺鍍靶單元能夠執(zhí)行不良熱導體之高速濺鍍。