翻轉(zhuǎn)裝置和真空鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911181284.8 申請日 -
公開（公告）號 CN110760811B 公開（公告）日 2021-08-06
申請公布號 CN110760811B 申請公布日 2021-08-06
分類號 C23C14/50;C23C16/458 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 金晨;楊卓;李建銀 申請（專利權(quán)）人 北京七星華創(chuàng)集成電路裝備有限公司
代理機構(gòu) 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 彭瑞欣;王婷
地址 101312 北京市順義區(qū)天竺綜合保稅區(qū)竺園三街6號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種翻轉(zhuǎn)裝置和真空鍍膜設(shè)備，該翻轉(zhuǎn)裝置包括可翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)架、相對設(shè)置在該翻轉(zhuǎn)架上的兩個第一夾緊機構(gòu)、分別與兩個第一夾緊機構(gòu)連接的兩個載臺組件以及分別設(shè)置在兩個載臺組件上的兩個第二夾緊機構(gòu)，其中，各載臺組件用于承載托盤；兩個第一夾緊機構(gòu)用于分別向兩個載臺組件的四周邊緣處施加壓力，以將置于兩個載臺組件之間的兩個托盤夾緊；兩個第二夾緊機構(gòu)用于分別向置于兩個載臺組件上的兩個托盤的指定位置施加壓力，該指定位置為與托盤上的基片相對應的位置。本發(fā)明提供的翻轉(zhuǎn)裝置，其可以避免基片在翻轉(zhuǎn)過程中表面受損或掉落，提高翻轉(zhuǎn)夾緊的可靠性和穩(wěn)定性，從而可以提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。