透明導(dǎo)電膜層拋光裝置及其拋光方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200610034900.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN100500377C 公開（公告）日 2009-06-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN100500377C 申請(qǐng)公布日 2009-06-17
分類號(hào) B24B29/02(2006.01)I;B24B7/24(2006.01)I;B24B9/14(2006.01)I;B24B13/015(2006.01)I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 金弼 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳新視界光電技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳創(chuàng)友專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 深圳南玻顯示器件科技有限公司;宜昌南玻顯示器件有限公司
地址 518067廣東省深圳市蛇口沿山路33號(hào)南玻工業(yè)大廈
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種透明導(dǎo)電膜層拋光裝置，包括基板固定盤、與基板固定盤相對(duì)應(yīng)的拋光布固定件、拋光布和驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，拋光布固定在拋光布固定件上，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于使拋光布摩擦基板上的透明導(dǎo)電膜層，所采用的拋光布材質(zhì)足夠柔軟，以使在工作壓力下拋光布的和基板接觸部分的彈性形變量大于0.1毫米，遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于基板表面凹凸高度的差值。利用本發(fā)明對(duì)ITO膜層進(jìn)行軟拋光，不僅保證了ITO膜層在10微米*10微米范圍內(nèi)原子力顯微鏡AFM測(cè)得的粗糙度Ra、Rp-v有顯著降低，而且保證ITO膜層的電阻均勻性在拋光前后差異很小，保證量產(chǎn)的均勻性和重復(fù)性，且簡單易行。