一種鋁鈧合金靶材的制造方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011535127.5 申請日 -
公開（公告）號 CN112708864A 公開（公告）日 2021-04-27
申請公布號 CN112708864A 申請公布日 2021-04-27
分類號 C23C14/35;C22C1/03;C22C21/00;C22C28/00 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 丁照崇;李勇軍;賈倩;曹曉萌;龐欣;滕海濤;關(guān)靜;曲鵬;李利利;杜文路 申請（專利權(quán)）人 有研億金新材料（山東）有限公司
代理機構(gòu) 北京眾合誠成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 黃家俊
地址 102200 北京市昌平區(qū)超前路33號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了屬于磁控濺射靶材制造技術(shù)領(lǐng)域的一種鋁鈧合金靶材的制造方法。所述鋁鈧合金靶材制造方法為：以鋁塊、粒度為5～50微米的1～4種鋁鈧中間化合物球形粉為原料，置于氧化鋁或氧化鋯熔煉坩堝內(nèi)，經(jīng)過700～900℃的中頻感應(yīng)熔煉及電磁攪拌，使得鋁塊完全熔化，而鋁鈧中間化合物粉體不熔化，最終形成鋁鈧中間化合物粉體均勻分散其間的高溫鋁漿料；然后將高溫鋁漿料快速澆鑄到模具內(nèi)，冷卻凝固一次成型得到近成品尺寸靶坯；然后對該靶坯進行機加工得到鋁鈧合金靶材。