一種用于IC銅阻擋層CMP的拋光組合物及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011055094.4 申請日 -
公開（公告）號 CN112175525A 公開（公告）日 2021-01-05
申請公布號 CN112175525A 申請公布日 2021-01-05
分類號 C09G1/02(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應用;
發(fā)明人 宋偉紅;蔡慶東 申請（專利權）人 常州時創(chuàng)新材料有限公司
代理機構 蘇州曼博專利代理事務所（普通合伙） 代理人 常州時創(chuàng)新材料有限公司
地址 213300江蘇省常州市溧陽市昆侖街道吳潭渡路8號2幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于IC銅阻擋層CMP的拋光組合物，通過如下方法制備：將分散劑、緩蝕劑、潤濕劑、有機溶劑、氧化劑在攪拌下依次加入磨料，再加入消泡劑，再用pH調(diào)節(jié)劑調(diào)整溶液的pH值。本發(fā)明拋光組合物，可用于銅互連阻擋層的化學機械拋光，拋光后表面污染物顆粒、表面蝶形凹陷以及金屬的腐蝕均得到有效控制，可滿足28納米及以下工藝的要求，具有較好的應用前景。??