光刻潤(rùn)濕液及其應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010472741.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111474833A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-07-31 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111474833A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-07-31 |
| 分類(lèi)號(hào) | G03F7/42(2006.01)I | 分類(lèi) | - |
| 發(fā)明人 | 宋偉紅;余偉 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 常州時(shí)創(chuàng)新材料有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州曼博專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 常州時(shí)創(chuàng)新材料有限公司 |
| 地址 | 213300江蘇省常州市溧陽(yáng)市昆侖街道吳潭渡路8號(hào)2幢 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種光刻潤(rùn)濕液，其含有水、有機(jī)堿和活性劑；所述有機(jī)堿為胍類(lèi)有機(jī)堿或哌嗪類(lèi)有機(jī)堿；所述活性劑為EO/PO嵌段共聚物與水溶性聚合物的組合物。本發(fā)明光刻潤(rùn)濕液適合于45納米，尤其是14納米及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的光刻工藝，可進(jìn)一步降低光阻倒塌率和改善圖案粗糙度，形成更為精細(xì)和完整的光阻圖案，達(dá)到工藝要求的技術(shù)指標(biāo)，提升良品率和可靠性。?? |
