一種用于碳化硅CMP的拋光組合物及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011059655.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112029417A | 公開(公告)日 | 2020-12-04 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112029417A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-12-04 |
分類號(hào) | C09G1/02 | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
發(fā)明人 | 宋偉紅;蔡慶東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 常州時(shí)創(chuàng)新材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 蘇州曼博專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 常州時(shí)創(chuàng)新材料有限公司 |
地址 | 213300 江蘇省常州市溧陽市昆侖街道吳潭渡路8號(hào)2幢 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種用于碳化硅CMP的拋光組合物的制備方法,通過如下方法制備:將分散劑、促進(jìn)劑、pH緩沖劑、潤(rùn)濕劑、絡(luò)合劑加入水中,攪拌均勻后加入磨料,再加入消泡劑,再用pH調(diào)節(jié)劑調(diào)整溶液的pH值,再陳化。采用本發(fā)明拋光液對(duì)碳化硅晶片進(jìn)行CMP,可以具有較好的去除速率和表面光潔度,粗糙度可達(dá)到0.2nm以下。本發(fā)明拋光組合物是良好的碳化硅晶片拋光劑,可替代硬質(zhì)磨料組合物,改善粗糙度和光潔度,且綠色環(huán)保。 |
