一種變柵距凹面光柵及其制作工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201711287721.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN108152873A 公開（公告）日 2018-06-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN108152873A 申請(qǐng)公布日 2018-06-12
分類號(hào) G02B5/18 分類 光學(xué);
發(fā)明人 梁娟;焦鑫;楊莽;吳克墀 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳力合防偽技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 深圳力合防偽技術(shù)有限公司
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)高新南七道深圳清華大學(xué)研究院C320
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種變柵距凹面光柵制作工藝，包括：調(diào)配復(fù)合樹脂步驟：采用順排碳納米管、聚氨酯丙烯酸樹脂、活性單體、引發(fā)劑混合，得到復(fù)合樹脂；3D打印模型設(shè)計(jì)步驟：通過計(jì)算機(jī)設(shè)計(jì)具有空洞微結(jié)構(gòu)的光柵模型；所述空洞微結(jié)構(gòu)的尺寸為10?20nm；所述光柵的特征線寬為0.4?0.6μm；3D打印步驟：利用LED?UV分辨率1080P的DLP?3D打印機(jī)打印得變柵距凹面光柵。該制作工藝通過在3D數(shù)字建模過程中設(shè)計(jì)人造微結(jié)構(gòu)及其采取隨機(jī)分布排列方式，增加對(duì)不同方向入射電磁波的電磁響應(yīng)，使得該變柵距功能的凹面光柵在較寬的頻段內(nèi)具有較高的折射率。