具有可再生性能的靜電卡盤及其成型方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011106884.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112018021A | 公開(公告)日 | 2020-12-01 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112018021A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-12-01 |
分類號(hào) | H01L21/683(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 楊冬野;袁蕾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蘇州芯慧聯(lián)半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京科億知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 湯東鳳 |
地址 | 215000江蘇省蘇州市常熟市常熟高新區(qū)技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)金門路2號(hào)2幢 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明揭示了具有可再生性能的靜電卡盤及其成型方法,具有可再生性能的靜電卡盤包括底座、設(shè)于底座頂部的絕緣層、設(shè)于絕緣層頂部的介電層、夾持內(nèi)嵌設(shè)于絕緣層和介電層之間的電極層、以及設(shè)于介電層表面的由類金剛石薄膜制成的若干凸臺(tái);若干凸臺(tái)沿介電層圓心呈數(shù)個(gè)不同直徑環(huán)繞的圓形間斷分布,介電層表面設(shè)有若干沿其不同直徑方向分布的冷卻槽,若干凸臺(tái)的表面架置設(shè)有晶圓基板。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了抑制晶圓與介電層直接接觸產(chǎn)生的磨耗,抑制微粒的產(chǎn)生。?? |
