一種熱納米壓印裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201520768338.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN205091541U 公開(kāi)（公告）日 2016-03-16
申請(qǐng)公布號(hào) CN205091541U 申請(qǐng)公布日 2016-03-16
分類號(hào) G03F7/00 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 蘇州訊鼎光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 210028 江蘇省南京市棲霞區(qū)和燕路371號(hào)東南大學(xué)科技園科創(chuàng)樓C405
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種熱納米壓印裝置，主要包括：壓力腔1、真空腔2、加熱盤(pán)3、隔熱墊4、找平機(jī)構(gòu)5、壓印組合6等六大部分組成。壓力腔1與真空腔2通過(guò)鉸鏈相連接，通過(guò)安全扣203進(jìn)行鎖死，密封圈進(jìn)行密封；真空腔2裝有接觸傳感器202。當(dāng)壓力腔與真空腔閉合時(shí)，壓印程序才能提供壓力，進(jìn)行納米壓印過(guò)程，最終在PMMA，PC，PET等高分子薄膜上形成均勻的亞微米結(jié)構(gòu)。