一種紫外光固化納米壓印光刻膠及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201510637694.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN105242493A | 公開(公告)日 | 2016-01-13 |
申請公布號 | CN105242493A | 申請公布日 | 2016-01-13 |
分類號 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I | 分類 | 攝影術;電影術;利用了光波以外其他波的類似技術;電記錄術;全息攝影術〔4〕; |
發(fā)明人 | 不公告發(fā)明人 | 申請(專利權)人 | 蘇州訊鼎光電科技有限公司 |
代理機構 | - | 代理人 | - |
地址 | 210028 江蘇省南京市棲霞區(qū)和燕路371號東南大學科技園科創(chuàng)樓C405 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種紫外光固化納米壓印光刻膠及其制備方法,該光刻膠包括:環(huán)氧丙烯酸酯5%-20%、紫外光引發(fā)劑1%-5%、乙二醇單異丙基醚30%-70%、活性稀釋劑10%-15%、表面活性劑10%-20%、有機硅雜化材料5%-10%、其他微量助劑0.5%-2%。在無紫外光的條件下,先往反應釜中加入乙二醇單異丙基醚,在80轉/分鐘的攪拌下加入活性稀釋劑、環(huán)氧丙烯酸酯,3分鐘后加入紫外光引發(fā)劑,待完全溶解后加入表面活性劑、有機硅雜化材料和微量助劑。5分鐘后用2000目濾網過濾得成品。該成品透明均一、有良好的儲存性能,且粘度較低,硅雜化材料有效保證了其抗刻蝕性能,能得到高分辨率的納米圖案。 |
