一種圓柱旋轉(zhuǎn)式矩形磁條磁控濺射靶

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022505954.1 申請日 -
公開（公告）號 CN214300327U 公開（公告）日 2021-09-28
申請公布號 CN214300327U 申請公布日 2021-09-28
分類號 C23C14/35（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 趙巖;苗潤財;苗潤發(fā);苗偉偉;王健 申請（專利權）人 上海繁楓真空科技有限公司
代理機構(gòu) 上海互順專利代理事務所（普通合伙） 代理人 成秋麗
地址 201507上海市金山區(qū)金山工業(yè)區(qū)亭衛(wèi)公路3877號2幢305室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及磁控濺射鍍膜設備技術領域，公開了一種圓柱旋轉(zhuǎn)式矩形磁條磁控濺射靶，包括靶支架，所述靶支架的一側(cè)上部設置連接有注水口，且靶支架的一側(cè)下部固定連接有電機，所述靶支架的另一側(cè)設置連接有靶腔，且靶支架的內(nèi)部固定連接有靶旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，所述靶腔的兩側(cè)固定連接有外齒輪，且靶腔的內(nèi)部固定連接有靶材，所述注水口的一側(cè)固定連接有進水管，所述進水管的一側(cè)固定連接有冷卻水管。本實用新型通過注水口、進水管、冷卻水管、電機、轉(zhuǎn)軸、第二齒輪、第一齒輪、靶旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)和靶腔，在電機的作用下，帶動轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)，從而帶動第二齒輪的旋轉(zhuǎn)，使得第一齒輪受到第二齒輪旋轉(zhuǎn)的力帶動靶旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)的運轉(zhuǎn)，便于工作人員的使用。