一種可大幅降低磁共振渦流的極頭
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202020476573.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212460019U | 公開（公告）日 | 2021-02-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212460019U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-02-02 |
| 分類號(hào) | G01R33/385(2006.01)I;G01R33/389(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 李良安;陳琳鑫;陳春霞;安學(xué)亮 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 惠仁望都醫(yī)療設(shè)備科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 072450河北省保定市望都縣經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)自強(qiáng)街1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種可大幅降低磁共振渦流的極頭，屬于磁共振技術(shù)領(lǐng)域。磁共振的梯度線圈在工作過程中容易產(chǎn)生渦流，影響磁場(chǎng)的均勻性，目前多采用雙層硅鋼片或自屏蔽梯度線圈的方法，但對(duì)于梯度線圈在極頭邊緣產(chǎn)生的渦流很難抑制，因此設(shè)計(jì)本實(shí)用新型包括極頭，設(shè)置于極頭上的雙層硅鋼片下層和設(shè)置于雙層硅鋼片下層上的雙層硅鋼片上層，極頭外圈上沿圓周分布有24個(gè)勻場(chǎng)環(huán)固定孔，極頭內(nèi)沿圓周均勻分布有兩圈梯度線圈固定孔，極頭沿圓周均勻分布有12道邊緣線切割槽。本實(shí)用新型采用所述可大幅降低磁共振渦流的極頭，采用雙層硅鋼片和線切割極頭可有效降低磁共振梯度線圈和極頭邊緣產(chǎn)生的渦流。?? |
