一種非平面梯度線圈的設(shè)計方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910997440.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112684392A | 公開(公告)日 | 2021-04-20 |
申請公布號 | CN112684392A | 申請公布日 | 2021-04-20 |
分類號 | G01R33/385(2006.01)I;G01R33/421(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 李良安;田煥霞;安學(xué)亮;陳琳鑫 | 申請(專利權(quán))人 | 惠仁望都醫(yī)療設(shè)備科技有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 072450河北省保定市望都縣經(jīng)濟開發(fā)區(qū)自強街1號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種非平面梯度線圈的設(shè)計方法,本發(fā)明設(shè)計的非平面梯度線圈是兩個圓面彎繞一定角度后形成的兩個弧形面組成,首先在球體上劃分目標(biāo)點,采用球諧函數(shù)分別計算出梯度線圈在目標(biāo)點上的磁場值,然后讀取三角網(wǎng)格的各個頂點和面,優(yōu)化頂點和面的排布順序,根據(jù)邊界元法設(shè)置導(dǎo)線尺寸,計算源點區(qū)通電導(dǎo)線對場點的貢獻(xiàn)值,約束非平面梯度線圈功耗和儲能最小,求出非平面梯度線圈功耗和儲能最小,求出非平面梯度線圈上電流密度分布,最后通過流函數(shù)法得到非平面梯度線圈的繞線形狀。本發(fā)明采用上述的非平面梯度線圈的設(shè)計方法,可以增加梯度線圈和極頭之間的間距,降低梯度線圈在極頭上產(chǎn)生的渦流,提高開放式MRI系統(tǒng)的圖像質(zhì)量。?? |
