殼體的制作方法及由該方法制得的殼體

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201010555189.2 申請日 -
公開（公告）號 CN102477527B 公開（公告）日 2014-07-30
申請公布號 CN102477527B 申請公布日 2014-07-30
分類號 C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;張成 申請（專利權(quán)）人 北京中財慧智教育科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 518109 廣東省深圳市寶安區(qū)龍華鎮(zhèn)油松第十工業(yè)區(qū)東環(huán)二路2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種殼體的制作方法，提供基體，采用磁控濺射方法在基體的表面形成色彩層，之后，在金屬靶材前端設(shè)置一移動的擋板，開啟靶材電源，該靶材為鈦靶、鉻靶或鋯靶中的任一靶材，調(diào)節(jié)該擋板至靶材正前方，沉積一定時間，使靶材原子濺射到該擋板上，并當濺射到靶材原子數(shù)量和濺射速度都穩(wěn)定時，移開擋板，使靶材原子濺射到基體上，繼續(xù)濺射一段時間后，關(guān)閉靶材電源，使圖案層于色彩層表面的沉積停留于形核階段，以在該色彩層上形成圖案層。由上述方法所制得的殼體，該殼體包括一基體、一色彩層、一圖案層，所述色彩層形成于基體的表面，所述圖案層形成于色彩層的表面，所述圖案層為Ti、Cr或Zr膜層。