一種硅基OLED微顯示器陽極及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110362257.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113054142A | 公開(公告)日 | 2021-06-29 |
申請公布號 | CN113054142A | 申請公布日 | 2021-06-29 |
分類號 | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 不公告發(fā)明人 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市芯視佳半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 蕪湖安匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 任晨晨 |
地址 | 518109 廣東省深圳市龍華區(qū)大浪街道新石社區(qū)頤豐華創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園28號頤豐華大廈903 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種硅基OLED微顯示器陽極及其制備方法和應(yīng)用,在wafer背板依次為:第一層由鋯、鉻或鈦金屬制備的薄膜結(jié)構(gòu);第二層由鋁、鎂、金或銀高反射率金屬制備的薄膜結(jié)構(gòu);第三層由氮化鈦、氮化鋯、氮化鉻或TiAlN氮化物制備的薄膜結(jié)構(gòu);第四層由ITO、IZO或IVO過渡金屬氧化物制備的薄膜結(jié)構(gòu);第五層由Bi、Cr、Ga、La、Sn、Ta、Ti、W、Mo或Ni等金屬制備的薄膜結(jié)構(gòu)。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明陽極具有耐腐蝕性、穩(wěn)定性和更高的功函數(shù),提高空穴注入能力和器件壽命。 |
