一種耐高溫光纖布拉格光柵陣列的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111071126.4 申請日 -
公開（公告）號 CN113759459A 公開（公告）日 2021-12-07
申請公布號 CN113759459A 申請公布日 2021-12-07
分類號 G02B6/02（2006.01）I 分類 光學;
發(fā)明人 鄭羽;江昕;鄒琪琳 申請（專利權）人 北京知覺科技有限公司
代理機構 上海申新律師事務所 代理人 吳軼淳
地址 100085北京市海淀區(qū)上地三街9號B座10層B1102-1、B1102-2
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種耐高溫光纖布拉格光柵陣列的制備方法，涉及光纖光柵制備技術領域，包括：步驟S1，對一單模光纖預制棒進行單層聚酰亞胺涂層的涂覆得到單層聚酰亞胺涂覆光纖；步驟S2，對所述單層聚酰亞胺涂覆光纖進行定點光柵寫入以形成光纖布拉格光柵陣列；步驟S3，對形成有所述光纖布拉格光柵陣列的所述單層聚酰亞胺涂覆光纖進行所述單層聚酰亞胺涂層的二次涂覆，以制備得到耐高溫光纖布拉格光柵陣列。有益效果解決了現(xiàn)有的聚酰亞胺涂層光纖布拉格光柵陣列無法耐受高溫的問題，本技術方案制備得到聚酰亞胺涂層光纖布拉格光柵陣列可以耐受300～350℃高溫，將光柵陣列的使用場景拓寬，可廣泛用于油氣開采運輸、發(fā)電設施、大型工業(yè)設備的傳感監(jiān)測中。