一種基于VGF法的減少GaAs晶體孿晶的裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201921656034.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN210711818U | 公開(公告)日 | 2020-06-09 |
申請公布號 | CN210711818U | 申請公布日 | 2020-06-09 |
分類號 | C30B11/00(2006.01)I;C30B29/42(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 柴曉磊;梁李虎;馮江峰 | 申請(專利權(quán))人 | 山西中科晶電信息材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京志霖恒遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 山西中科晶電信息材料有限公司 |
地址 | 043604山西省運(yùn)城市絳縣開發(fā)區(qū)陳村(山西沖壓廠西50米) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及半導(dǎo)體制備裝置技術(shù)領(lǐng)域,更具體而言,涉及一種基于VGF法的減少GaAs晶體孿晶的裝置,包括PBN坩堝、石英管、加熱器,石英管放置在爐芯上,石英管與爐芯之間設(shè)置有保溫支撐,爐芯內(nèi)設(shè)置有玻璃棒;PBN坩堝與石英管設(shè)置在保溫裝置內(nèi),保溫裝置為下部開口的中空筒狀結(jié)構(gòu),保溫裝置內(nèi)壁鑲嵌有加熱器,通過多組加熱器實現(xiàn)對爐芯及坩堝爐、石英管的熱輻射加熱,多組加熱器獨(dú)立運(yùn)作,實現(xiàn)不同部位不同溫度的加熱;通過底部玻璃棒提供熱流失通道;在石英管與坩堝之間設(shè)置有保溫支撐,阻擋石英支撐管散熱,均化溫場,避免溫場倒置,易生長出合格單晶,孿晶率下降至20%,提高晶體生長效率,提高經(jīng)濟(jì)效益。?? |
