一種基于VGF法的減少GaAs晶體孿晶的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921656034.0 申請日 -
公開(公告)號 CN210711818U 公開(公告)日 2020-06-09
申請公布號 CN210711818U 申請公布日 2020-06-09
分類號 C30B11/00(2006.01)I;C30B29/42(2006.01)I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 柴曉磊;梁李虎;馮江峰 申請(專利權(quán))人 山西中科晶電信息材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京志霖恒遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 山西中科晶電信息材料有限公司
地址 043604山西省運(yùn)城市絳縣開發(fā)區(qū)陳村(山西沖壓廠西50米)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及半導(dǎo)體制備裝置技術(shù)領(lǐng)域,更具體而言,涉及一種基于VGF法的減少GaAs晶體孿晶的裝置,包括PBN坩堝、石英管、加熱器,石英管放置在爐芯上,石英管與爐芯之間設(shè)置有保溫支撐,爐芯內(nèi)設(shè)置有玻璃棒;PBN坩堝與石英管設(shè)置在保溫裝置內(nèi),保溫裝置為下部開口的中空筒狀結(jié)構(gòu),保溫裝置內(nèi)壁鑲嵌有加熱器,通過多組加熱器實現(xiàn)對爐芯及坩堝爐、石英管的熱輻射加熱,多組加熱器獨(dú)立運(yùn)作,實現(xiàn)不同部位不同溫度的加熱;通過底部玻璃棒提供熱流失通道;在石英管與坩堝之間設(shè)置有保溫支撐,阻擋石英支撐管散熱,均化溫場,避免溫場倒置,易生長出合格單晶,孿晶率下降至20%,提高晶體生長效率,提高經(jīng)濟(jì)效益。??