一種化學(xué)機械拋光液及其在銅拋光中的應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201911402367.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113122143A | 公開(公告)日 | 2021-07-16 |
申請公布號 | CN113122143A | 申請公布日 | 2021-07-16 |
分類號 | C09G1/02(2006.01)I;H01L21/308(2006.01)I;H01L21/321(2006.01)I | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
發(fā)明人 | 姚穎;荊建芬;黃悅銳;倪宇飛;楊俊雅;馬健;周靖宇;李恒;汪國豪 | 申請(專利權(quán))人 | 安集微電子(上海)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京大成律師事務(wù)所 | 代理人 | 李佳銘;王芳 |
地址 | 201203上海市浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)碧波路889號1幢E座第1至第2層,以及第3層的部分區(qū)域 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種化學(xué)機械拋光液及其在銅拋光中的應(yīng)用,所述化學(xué)機械拋光液包括非離子表面活性劑、研磨顆粒和氧化劑。本發(fā)明旨在提供一種可用于需去除銅基材的多種應(yīng)用的化學(xué)機械拋光液,使用該化學(xué)機械拋光液可以在獲得滿足工藝要求的銅的去除速率的同時,降低拋光后銅表面粗糙度和銅表面污染物顆粒數(shù),保證拋光后的銅表面質(zhì)量,能夠滿足各種工藝條件下對銅表面的要求。 |
