一種石窟巖體微裂隙水害的治理方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111329797.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN114109454A | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-03-01 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114109454A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-01 |
分類(lèi)號(hào) | E21D11/38(2006.01)I;E21F16/00(2006.01)I;E02D3/10(2006.01)I;E02D3/12(2006.01)I;E02D15/02(2006.01)I | 分類(lèi) | 土層或巖石的鉆進(jìn);采礦; |
發(fā)明人 | 齊志誠(chéng);麻潤(rùn)杰;王友會(huì);石金山;韓國(guó)欣;馬彧杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 北京國(guó)電水利電力工程有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 天津市鼎和專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 李鳳 |
地址 | 100024北京市朝陽(yáng)區(qū)定福莊西街1號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種石窟巖體微裂隙水害的治理方法,采用鉆孔內(nèi)水平徑向孔工藝,進(jìn)行巖體近水平微裂隙防滲灌漿和排水。在小直徑豎向鉆孔內(nèi),沿巖體近水平微裂隙鉆水平徑向孔,連通裂隙閉合區(qū)和張開(kāi)區(qū),灌漿后形成連續(xù)的灌漿體,與常規(guī)帷幕灌漿相比,可以減小灌漿孔數(shù)量,降低灌漿壓力,保護(hù)文物安全,控制灌漿質(zhì)量,提高灌漿效果。用于水平微裂隙排水,沿水平微裂隙層面,鉆輻射狀的多個(gè)水平孔,形成排水通道,增加貫通含水裂隙的概率,避免大口徑豎井或排水廊道大規(guī)模開(kāi)挖對(duì)石窟巖體的破壞,達(dá)到與排水豎井及廊道相同的排水效果。 |
