低鉻鈍化液的殺菌凈化裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121163452.3 申請日 -
公開（公告）號 CN215251175U 公開（公告）日 2021-12-21
申請公布號 CN215251175U 申請公布日 2021-12-21
分類號 C23C22/00（2006.01）I;A61L2/22（2006.01）I;A61L2/26（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳欽燁;顏財敏;李容坤;周海翔 申請（專利權(quán)）人 溫州泰昌鐵塔制造有限公司
代理機(jī)構(gòu) 溫州甌越專利代理有限公司 代理人 倪越
地址 325024浙江省溫州市龍灣區(qū)金海一道919號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種低鉻鈍化液的殺菌凈化裝置，包括反應(yīng)池，所述反應(yīng)池上設(shè)置有支架，所述支架上設(shè)置有用于加入殺菌劑的注液裝置，所述注液裝置連通有出液管，所述反應(yīng)池底部設(shè)置有若干腔室，各個腔室設(shè)置有進(jìn)液口和進(jìn)氣口，所述進(jìn)氣口通過氣管與空氣壓縮機(jī)連接，所述進(jìn)液口通過進(jìn)液管與出液管連通，所述腔室外壁上設(shè)置有若干霧化出口，所述霧化出口上滾動設(shè)置有滾珠，所述腔室外壁對應(yīng)滾珠位置設(shè)置有用于限制滾珠脫離的限位支持，所述限位支持鏤空設(shè)置。其結(jié)構(gòu)簡單，具有更好的殺菌液分布效果。