磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201410083043.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN103849845B 公開（公告）日 2016-01-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN103849845B 申請(qǐng)公布日 2016-01-27
分類號(hào) C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 盧秀強(qiáng);熊樹林;李響 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 東莞銀行股份有限公司虎門支行
代理機(jī)構(gòu) 廣州三環(huán)專利代理有限公司 代理人 張艷美;郝傳鑫
地址 523000 廣東省東莞市虎門鎮(zhèn)龍眼十五路79號(hào)廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線，包括機(jī)座及設(shè)于機(jī)座的傳輸裝置、上料區(qū)、真空加工室組、下料區(qū)和回傳線路，上料區(qū)、真空加工室組、下料區(qū)及回傳線路呈環(huán)形順次相連設(shè)置且形成連續(xù)循環(huán)運(yùn)行的加工環(huán)路，傳輸裝置呈連續(xù)循環(huán)運(yùn)行的設(shè)于加工環(huán)路；真空加工室組包含沿傳輸裝置的傳輸方向順次相連設(shè)置的進(jìn)料室、前過渡室、前緩沖室、一號(hào)鍍膜室、二號(hào)鍍膜室、三號(hào)鍍膜室、后緩沖室、后過渡室及出料室，一號(hào)、二號(hào)及三號(hào)鍍膜室內(nèi)均設(shè)有靶材，一號(hào)、二號(hào)及三號(hào)鍍膜室外均設(shè)有可移動(dòng)的且靠近于所對(duì)應(yīng)的靶材的磁體及用于調(diào)節(jié)磁體的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包含移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件，移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件均與磁體連接。