一種等離子體刻蝕機(jī)用勻氣盤
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202020069857.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN211629036U | 公開（公告）日 | 2020-10-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211629036U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-10-02 |
| 分類號(hào) | H01J37/32(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 廖海濤;王斌 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 無錫市邑勉微電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 常州唯思百得知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 無錫市邑勉微電子有限公司 |
| 地址 | 214000江蘇省無錫市新吳區(qū)金城東路333-1-801 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種等離子體刻蝕機(jī)用勻氣盤，包括安裝罩，所述安裝罩頂端旋轉(zhuǎn)安裝有銜接管，所述安裝罩底端旋轉(zhuǎn)安裝有銜接罩，所述銜接罩內(nèi)部底端開設(shè)有安裝槽，所述安裝槽內(nèi)旋轉(zhuǎn)安裝有供氣盒，所述供氣盒底端表面鑲嵌有均氣盤，本實(shí)用新型通過供氣盒頂端表面鑲嵌的一號(hào)進(jìn)氣管和二號(hào)進(jìn)氣管，便利于通過一號(hào)進(jìn)氣管和二號(hào)進(jìn)氣管不同的口徑來改變氣體進(jìn)入供氣盒內(nèi)的壓強(qiáng)與氣體量，從而以便氣體均勻的由均氣盤排出，可避免因單獨(dú)供氣管道供氣氣體集中作用于部分出氣孔，導(dǎo)致排氣不均勻影響等離子體刻蝕操作的情況出現(xiàn)。?? |
