一種法拉第屏蔽反應(yīng)腔室
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202020120986.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN211629038U | 公開（公告）日 | 2020-10-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211629038U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-10-02 |
| 分類號(hào) | H01J37/32(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 廖海濤;張飛 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 無錫市邑勉微電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 常州唯思百得知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 無錫市邑勉微電子有限公司 |
| 地址 | 214000江蘇省無錫市新吳區(qū)金城東路333-1-801 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別涉及一種法拉第屏蔽反應(yīng)腔室。包括腔體頂蓋、頂蓋密封圈、石英管、電感支撐體、腔體密封圈、放電線圈、腔體密封蓋、離子聚焦圈，還包括氣體分散盤和線圈支架；電感支撐體套在石英管外，石英管上端通過頂蓋密封圈與腔體頂蓋密封固定連接，氣體分散盤安裝在腔體頂蓋軸心下方，石英管下端通過腔體密封圈與腔體密封蓋密封固定連接，離子聚焦圈安裝在腔體密封蓋下方，電感支撐體一周安裝有線圈支架，線圈支架外纏繞有放電線圈。本實(shí)用新型提供的反應(yīng)腔室，其可以避免反應(yīng)腔體與外側(cè)的放電線圈相接觸造成短路，可以均勻快速地產(chǎn)生所需的等離子體，且結(jié)構(gòu)簡單。?? |
