一種氣體發(fā)生裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201821276447.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214636233U | 公開(公告)日 | 2021-11-09 |
申請公布號 | CN214636233U | 申請公布日 | 2021-11-09 |
分類號 | B01J7/00(2006.01)I;A61L9/015(2006.01)I | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 胡約特;童舟;趙恩澤 | 申請(專利權(quán))人 | 艾伽盾科技(浙江)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京聯(lián)創(chuàng)佳為專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 郭防 |
地址 | 316000浙江省舟山市定海區(qū)舟山港綜合保稅區(qū)企業(yè)服務(wù)中心305-9014室(自貿(mào)實驗區(qū)內(nèi)) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種氣體發(fā)生裝置,包括凈化盒和發(fā)生器,發(fā)生器設(shè)置在凈化盒的一側(cè),凈化盒內(nèi)設(shè)置有空氣腔和儲液槽,空氣腔中設(shè)置有第一中空管和第二中空管,第一中空管和第二中空管的外開口和內(nèi)開口上均設(shè)置有薄膜層,第一中空管和/或第二中空管中內(nèi)置有凈化劑。通過薄膜層將第一中空管和第二中空管密封起來,防止液體與第一中空管和/或第二中空管內(nèi)放置的凈化劑接觸反應(yīng)。 |
