一種用于靶前束暈及剖面探測的絲靶及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110726814.3 申請日 -
公開（公告）號 CN113484899B 公開（公告）日 2022-06-28
申請公布號 CN113484899B 申請公布日 2022-06-28
分類號 G01T1/29（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 謝宏明;牛海華;武軍霞;賈歡;袁辰彰;李志學(xué);杜澤;魏源;李麗莉;尹佳;張雍;朱光宇;楊建成 申請（專利權(quán)）人 中國科學(xué)院近代物理研究所
代理機(jī)構(gòu) 北京紀(jì)凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 730013甘肅省蘭州市城關(guān)區(qū)南昌路509號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于靶前束暈及剖面探測的絲靶及裝置。所述絲靶沿束流前進(jìn)方向依次包括：第一偏壓絲層，設(shè)置傾斜偏壓絲，被配置為對雜散電子進(jìn)行抑制；第一信號絲層，設(shè)置水平平行信號絲或設(shè)置豎直平行信號絲，被配置為對束流進(jìn)行垂直剖面的測量或被配置為對束流進(jìn)行水平剖面的測量；第二信號絲層，設(shè)置豎直平行信號絲或設(shè)置水平平行信號絲，被配置為對束流進(jìn)行水平剖面的測量或被配置為對束流進(jìn)行垂直剖面的測量；第二偏壓絲層，設(shè)置傾斜偏壓絲，被配置為對雜散電子進(jìn)行抑制；金屬刮束片層，設(shè)置金屬片，被配置為阻擋及測量束暈邊緣的粒子。本發(fā)明能夠高效抑制高輻射區(qū)反沖劑量和雜散電子干擾，并能進(jìn)行靶前束流邊緣粒子即束暈的測量。