瓦級全固態(tài)紫外激光清洗機及激光清洗方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200810056852.7 申請日 -
公開（公告）號 CN101219430A 公開（公告）日 2008-07-16
申請公布號 CN101219430A 申請公布日 2008-07-16
分類號 B08B7/00(2006.01);B08B7/04(2006.01);B08B5/00(2006.01) 分類 清潔;
發(fā)明人 沈德忠;許祖彥;李明遠;王桂玲;沈光球;王曉青 申請（專利權(quán)）人 深圳市淼浩高新科技開發(fā)有限公司
代理機構(gòu) 北京眾合誠成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 清華大學(xué);中國科學(xué)院物理研究所;深圳市淼浩高新科技開發(fā)有限公司
地址 100084北京市100084－82信箱
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了屬于光能清洗技術(shù)范圍的一種瓦級全固態(tài)紫外激光清洗機及激光清洗方法，用于集成電路等微電子基板清洗。該設(shè)備的電源連接激光共振腔，在激光共振腔發(fā)出的脈沖激光的光路上設(shè)置兩塊非線性光學(xué)晶體、選通鏡和反射鏡；在反射鏡的側(cè)上方固定一轉(zhuǎn)鏡鼓，傳送帶上放置被洗工件；在傳送帶的一側(cè)放置吹風機，另一側(cè)放置吸塵器。該方法包括連續(xù)或斷續(xù)地輸送待清洗的基板通過激光輻照處，由全固態(tài)激光器輸出的瓦級近266nm脈沖激光照射到基板表面；選擇適當?shù)募す鈴姸?、脈沖頻率及輻照時間，以對基板表面的微米及亞微米級顆粒、有機物、油污等污染物進行有效去除；清洗后鍍層附著力和產(chǎn)品成品率都有很大提高，并很少有鍍層翹曲、剝落的現(xiàn)象。