一種高純粉體連續(xù)純化裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | 2020214728180 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN212404355U | 公開(公告)日 | 2021-01-26 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN212404355U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-01-26 |
分類號(hào) | C30B35/00(2006.01)I | 分類 | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
發(fā)明人 | 周社柱;馮光志;張軍彥;王慧明;劉曉鵬;梁林飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 山西中電科新能源技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 太原高欣科創(chuàng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 崔雪花;冷錦超 |
地址 | 030032山西省太原市小店區(qū)綜改示范區(qū)太原唐槐園區(qū)唐槐路5號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種高純粉體連續(xù)純化裝置,屬于晶體材料純化技術(shù)領(lǐng)域;解決現(xiàn)有高純粉體純化率低,純化效率慢的問題;技術(shù)方案:待純化的粉體經(jīng)送料裝置落入連接有驅(qū)動(dòng)裝置的旋轉(zhuǎn)盤,旋轉(zhuǎn)盤的表面設(shè)置有若干弧形隔板,弧形隔板以旋轉(zhuǎn)盤的中心呈放射狀依次排列,加熱器位于旋轉(zhuǎn)盤的下方,旋轉(zhuǎn)盤自轉(zhuǎn)使落入的粉體在離心力作用下經(jīng)過旋轉(zhuǎn)盤邊緣落入接料槽,整個(gè)過程中加熱器一直加熱;本實(shí)用新型可實(shí)現(xiàn)粉體的連續(xù)生產(chǎn),增大粉體與工藝氣體和加熱面的接觸面積,減少粉體進(jìn)出爐和升溫降溫時(shí)間,純化效率和純化效果均明顯提升。?? |
