一種新型半導(dǎo)體晶圓涂布機(jī)吸頭
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201920121414.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN209577257U | 公開(kāi)（公告）日 | 2019-11-05 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN209577257U | 申請(qǐng)公布日 | 2019-11-05 |
| 分類(lèi)號(hào) | B05C13/02（2006.01）I | 分類(lèi) | 一般噴射或霧化；對(duì)表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 汪良恩; 伍銀輝 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 安徽安芯電子科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海華誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 安徽安芯電子科技股份有限公司 |
| 地址 | 247100 安徽省池州市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)富安電子信息產(chǎn)業(yè)園10號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種新型半導(dǎo)體晶圓涂布機(jī)吸頭，屬于半導(dǎo)體晶圓光刻膠技術(shù)領(lǐng)域。包括吸頭、吸頭底座和緩沖片，所述吸頭固定在吸頭底座上，吸頭和吸頭底座組合成圓形凸臺(tái)，凸臺(tái)中心設(shè)有貫穿的真空口，所述吸頭外表面設(shè)有一層緩沖片，所述緩沖片采用泡沫材料，緩沖片的外表面上設(shè)有槽口，內(nèi)表面為光滑平整面；本實(shí)用新型通過(guò)在涂布機(jī)吸頭上設(shè)置一層緩沖片，減少晶片在作業(yè)過(guò)程中與吸頭的硬接觸，減少作業(yè)過(guò)程中的破片，增加晶圓的產(chǎn)出率。 |
