一種鍍膜方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110079571.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113481486A 公開（公告）日 2021-10-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN113481486A 申請(qǐng)公布日 2021-10-08
分類號(hào) C23C16/44（2006.01）I;C23C16/46（2006.01）I;C23C16/24（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I;C30B28/14（2006.01）I;C30B29/06（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 宣城睿暉宣晟企業(yè)管理中心合伙企業(yè)（有限合伙）
代理機(jī)構(gòu) 北京三聚陽光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王鍇
地址 242074安徽省宣城市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)青弋江大道宣城科技園B19-1幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種鍍膜方法，包括以下步驟：向工藝腔室內(nèi)輸入待鍍膜工件；對(duì)所述工藝腔室內(nèi)的待鍍膜工件進(jìn)行預(yù)熱，預(yù)熱過程中采用氬等離子體對(duì)所述工藝腔室的內(nèi)壁進(jìn)行預(yù)清洗處理，以減少工藝腔室內(nèi)鍍膜顆粒污染；將經(jīng)過預(yù)清洗處理后的所述工藝腔室抽至鍍膜所需的底壓，在所述工藝腔室內(nèi)對(duì)待鍍膜工件進(jìn)行鍍膜。在鍍膜工藝前，采用氬等離子體對(duì)所述工藝腔室的內(nèi)壁進(jìn)行預(yù)清洗處理，可以使工藝腔室內(nèi)壁較為松動(dòng)的薄膜提前脫落，留下附著力良好的薄膜，進(jìn)而大幅度降低鍍膜工藝過程中的膜顆粒的掉落風(fēng)險(xiǎn)；而且，氬等離子處理過程中對(duì)工藝腔室有一定的升溫作用，可縮短待鍍膜工件在工藝腔室中的加熱過程，不會(huì)影響生產(chǎn)效率。