基于網格位移模型的電阻抗斷層成像方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201210101066.0 申請日 -
公開(公告)號 CN102599907B 公開(公告)日 2015-03-04
申請公布號 CN102599907B 申請公布日 2015-03-04
分類號 A61B5/053(2006.01)I 分類 醫(yī)學或獸醫(yī)學;衛(wèi)生學;
發(fā)明人 戴濤;蒲洋 申請(專利權)人 成都晨德科技有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 610041 四川省成都市高新區(qū)益州大道中段1800號移動互聯創(chuàng)業(yè)大廈G1棟1801室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種基于網格位移模型的電阻抗斷層成像方法,克服了現有技術在待測體發(fā)生形變后其電阻抗斷層成像質量不高的缺陷。該基于網格位移模型的電阻抗斷層成像方法,包括以下步驟:(1)通過待測體得到有限元網格位移模型,并對該待測體進行數據采集,根據采集到的數據計算差分電壓信號;(2)計算待測體電導率變化近似值;(3)計算所得的在有限元網格位移模型中進行顯示,其顯示出來的圖像即為待測體的實時差分圖像。本發(fā)明利用有限元網格位移模型來修正待測體全部區(qū)域的結構形變,與現有技術相比,成像質量得到了明顯提高。