一種下沉式真空腔體
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111640869.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN114481081A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-05-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114481081A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-13 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/56（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 張俊峰;趙子?xùn)|;許春立;魏慶瑄 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 上海子創(chuàng)鍍膜技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海尊肅專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 201506上海市金山區(qū)金山工業(yè)區(qū)金飛路808號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明屬于真空鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種下沉式真空腔體，包括底板，底板邊沿的頂部均固接有側(cè)板，側(cè)板的頂端設(shè)有沿口板，位于左側(cè)的側(cè)板上設(shè)有抽氣口和支撐臂，四個(gè)側(cè)板圍成的空腔內(nèi)下沉有蓋板，蓋板底部?jī)蓚?cè)安裝有放氣擋板，放氣擋板兩側(cè)均設(shè)有一排氣孔；蓋板的頂部固接有蓋板下沉板；蓋板下沉板的頂部固接有圍板，蓋板下沉板的兩側(cè)頂部均設(shè)有快速放氣進(jìn)氣口和軟放氣進(jìn)氣口；蓋板下沉板的頂部固接有蓋板翻轉(zhuǎn)臂，蓋板翻轉(zhuǎn)臂的一端延伸至圍板的外部并與支撐臂連接；位于底板兩端的側(cè)板外側(cè)均固接有端板，端板上設(shè)有若干固定孔，固定孔內(nèi)設(shè)有緊固螺栓；本發(fā)明能夠防止充氣氣流直接充進(jìn)真空腔體將基片吹起或破碎，且生產(chǎn)效率高。 |
