一種鉬基片層改性氫氧化鎂及其制備方法和應用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111434797.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114058084A | 公開(公告)日 | 2022-02-18 |
申請公布號 | CN114058084A | 申請公布日 | 2022-02-18 |
分類號 | C08K9/10(2006.01)I;C08K9/06(2006.01)I;C08K3/22(2006.01)I;C08L27/06(2006.01)I | 分類 | 有機高分子化合物;其制備或化學加工;以其為基料的組合物; |
發(fā)明人 | 徐靈峰;彭鶴松;鄒檢生;宋波;邱文福;吳維冰;鄧克文;賀欣欣 | 申請(專利權)人 | 江西廣源化工有限責任公司 |
代理機構 | 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司 | 代理人 | 呂永齊 |
地址 | 343000江西省吉安市永豐縣城南工業(yè)園區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于功能粉體技術領域,特別涉及一種鉬基片層改性氫氧化鎂及其制備方法和應用。本發(fā)明提供的鉬基片層改性氫氧化鎂,包括氫氧化鎂內核和包覆所述氫氧化鎂內核的鉬基片層形成的外殼;所述鉬基片層的化學組成為MoX2,X為O、S、Se或Te。在本發(fā)明中,鉬基片層形成的外殼具備較高的熱穩(wěn)定性,可有效防止鉬基片層改性氫氧化鎂在應用過程中降解;外殼含有鉬元素,具備較強的催化成炭效應,且為片層形貌,應用過程中可增強炭層的穩(wěn)固性并進一步有效提升物理阻隔效應;鉬基片層形成的外殼在聚合物燃燒過程中會吸附聚合物降解的碎片,表面形成的許多微小孔洞結構,作為“微反應器”促使一些聚合物降解碎片碳化,提升阻燃特性。 |
