等離子鍍膜裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN90206431.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN2067280U 公開(kāi)（公告）日 1990-12-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN2067280U 申請(qǐng)公布日 1990-12-12
分類號(hào) C23C14/32 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉樹(shù)德;高慶民;周玉福 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 蘇州市輕工業(yè)品設(shè)計(jì)研究所
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 215005江蘇省蘇州市范莊前24號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種冷陰極真空電弧型等離子鍍膜裝置，在冷陰極真空電弧產(chǎn)生的等離子區(qū)域內(nèi)另有電熱式金屬蒸發(fā)源構(gòu)成復(fù)式蒸發(fā)離化源。這樣的復(fù)式蒸發(fā)離化源具有任何一單種蒸發(fā)源得不到的獨(dú)特效果。是適用于塑料、玻璃、陶瓷、各種金屬部件的多功能復(fù)合鍍膜裝置。