一種線輪廓成像裝置的解調(diào)方法及成像裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110535064.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113251945A | 公開（公告）日 | 2021-08-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113251945A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-13 |
| 分類號(hào) | G01B11/24;G01B11/00;G01B9/02 | 分類 | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 王毅;施家正;彭思龍;汪雪林;顧慶毅;趙效楠;王一潔;郭曉鋒 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 蘇州中科行智智能科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京精金石知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 尉月麗 |
| 地址 | 066004 河北省秦皇島市海港區(qū)泰山路143號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種線輪廓成像裝置的解調(diào)方法，通過獲取被測(cè)物品上的干涉光譜并計(jì)算幅度譜獲取極大值點(diǎn)的橫坐標(biāo)序數(shù)，計(jì)算干涉光譜的分光譜的相位，進(jìn)而計(jì)算線輪廓分布并進(jìn)行修正，非卷繞范圍較大，抗噪能力較強(qiáng)，容易判斷去卷繞是否出錯(cuò)。本發(fā)明還提供了一種線輪廓成像裝置，能夠防止被測(cè)物品對(duì)成像造成遮擋，使用相對(duì)較窄的低相干光源產(chǎn)生線形光，實(shí)現(xiàn)毫米數(shù)量級(jí)的大范圍、納米級(jí)的高分辨率測(cè)量及成像，實(shí)施成本較低。 |
