一種雙光子三維光刻裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120618113.3 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN214623298U 公開（公告）日 2021-11-05
申請公布號(hào) CN214623298U 申請公布日 2021-11-05
分類號(hào) G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 魏一振;張卓鵬;洪蕓蕓 申請（專利權(quán)）人 杭州志英科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 311215浙江省杭州市蕭山區(qū)傳化科創(chuàng)大廈1幢蕭山科技城301-56室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種雙光子三維光刻裝置，包括光源模塊，光源模塊上設(shè)有波長不同的第一光路和第二光路，第一光路和第二光路上各自設(shè)有色散補(bǔ)償器；空間光調(diào)制模塊，對第一光路和第二光路分別調(diào)制產(chǎn)生第一光強(qiáng)分布圖和第二光強(qiáng)分布圖；投影模塊，將空間光調(diào)制模塊產(chǎn)生的第一光強(qiáng)分布圖和第二光強(qiáng)分布圖成像于物鏡的焦平面上；位移模塊，用于對光刻膠的三維掃描和光刻，所述第一光強(qiáng)分布圖和第二光強(qiáng)分布圖部分重疊聚焦在光刻膠內(nèi)部，對光刻膠進(jìn)行光刻；計(jì)算機(jī)，用于控制色散補(bǔ)償器、空間光調(diào)制模塊和位移模塊。本申請的雙光子三維光刻裝置，采用面投影光刻技術(shù)，通過“時(shí)空光片疊加”和“實(shí)時(shí)色散補(bǔ)償”技術(shù)提高縱向加工精度。