一種磁性陣列的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200810045292.5 申請日 -
公開（公告）號 CN101329938B 公開（公告）日 2011-10-26
申請公布號 CN101329938B 申請公布日 2011-10-26
分類號 H01F10/08(2006.01)I;H01F41/32(2006.01)I;H01F41/34(2006.01)I;G11B5/00(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李元勛;宋遠強;劉穎力;張懷武;鐘智勇;邊麗菲;查杰 申請（專利權(quán)）人 東莞成電創(chuàng)新電子科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 610054 四川省成都市建設(shè)北路二段四號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于電子材料技術(shù)領(lǐng)域，涉及平面磁性陣列器件的制備方法。先將永磁陣列母板固定于基底下表面，然后在基底上表面均勻涂覆納米鐵氧體/光敏聚合物復合材料，然后靜置待納米鐵氧體磁性粒子在永磁陣列母板磁場的作用下按照母板的陣列圖形排布后曝光實現(xiàn)納米鐵氧體磁性粒子的固化，最后去除永磁陣列模板即可得到相應的磁性陣列。本發(fā)明實質(zhì)上是利用永磁陣列母板復制磁性陣列；同時，本發(fā)明利用光敏聚合物來固定磁性陣列中的納米鐵氧體磁性粒子，解決了現(xiàn)有技術(shù)中“因圖形分辨率下降導致器件失效”的技術(shù)問題。本發(fā)明工藝簡單、操作容易、無需光刻和成本低廉，適于大規(guī)模生產(chǎn)，在微電子、光電子、磁記錄及微波器件領(lǐng)域中具有廣泛的應用前景。