開放式溫場(chǎng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111531912.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114214721A 公開（公告）日 2022-03-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN114214721A 申請(qǐng)公布日 2022-03-22
分類號(hào) C30B15/00（2006.01）I;C30B15/14（2006.01）I;C30B29/22（2006.01）I 分類 晶體生長(zhǎng)〔3〕;
發(fā)明人 王宇;官偉明;梁振興 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 眉山博雅新材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都七星天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 嚴(yán)芳芳
地址 620010四川省眉山市東坡區(qū)金象化工產(chǎn)業(yè)園區(qū)君樂路3號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本說明書實(shí)施例提供一種溫場(chǎng)裝置，該溫場(chǎng)裝置放置于晶體生長(zhǎng)爐內(nèi)，且位于晶體生長(zhǎng)爐內(nèi)的感應(yīng)線圈中；溫場(chǎng)裝置包括底板、第一蓋板、第一筒、第二筒以及填充體；底板設(shè)置于溫場(chǎng)裝置底部，覆蓋于第一筒一開口端；其中，第一蓋板設(shè)置于溫場(chǎng)裝置頂部，覆蓋于第一筒另一開口端；第二筒設(shè)置于第一筒內(nèi)部；填充體填充于第二筒內(nèi)部和第二筒和第一筒之間的空隙中；位于第二筒內(nèi)部的填充體至少用于支撐堝并包覆堝的至少一部分。