一種基于低共熔溶劑的富氫劑及其制備方法與應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011021914.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112250035A | 公開(公告)日 | 2021-06-01 |
申請公布號 | CN112250035A | 申請公布日 | 2021-06-01 |
分類號 | C01B3/00 | 分類 | 無機化學(xué); |
發(fā)明人 | 喻文;張嘉恒;馮景鵬;徐燕慧;張日翔 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江氫品十方科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 深圳市君勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 劉文求;朱陽波 |
地址 | 518055 廣東省深圳市南山區(qū)桃源街道深圳大學(xué)城哈爾濱工業(yè)大學(xué)校區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種基于低共熔溶劑的富氫劑及其制備方法與應(yīng)用。所述基于低共熔溶劑的富氫劑,包括:低共熔溶劑、水、氫氣;其中,所述低共熔溶劑包括:氫鍵供體和氫鍵受體;所述氫鍵供體包括:膽堿類化合物、甜菜堿類化合物和甜菜堿鹽酸鹽類化合物中的一種或多種;所述氫鍵受體包括:醇類化合物、酰胺類化合物中的一種或多種。本發(fā)明所述富氫劑以低共熔溶劑水溶液為有效儲氫組分,溶解了高濃度的氫氣,所述富氫劑中飽和氫氣含量達到1.7ppm以上,解決了目前氫氣濃度低的問題,達到了很多領(lǐng)域的應(yīng)用要求。 |
