一種基于有機(jī)介質(zhì)的高性能AlGaN/GaN HEMT開(kāi)關(guān)器件結(jié)構(gòu)及其制作方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201410312711.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN104051521B | 公開(kāi)(公告)日 | 2017-03-22 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN104051521B | 申請(qǐng)公布日 | 2017-03-22 |
分類號(hào) | H01L29/778(2006.01)I;H01L29/20(2006.01)I;H01L21/335(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 馮倩;代波;董良;杜鍇;鄭雪峰;張春福;馬曉華;郝躍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 陜西西安電子科大資產(chǎn)經(jīng)營(yíng)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京世譽(yù)鑫誠(chéng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 西安電子科技大學(xué);陜西半導(dǎo)體先導(dǎo)技術(shù)中心有限公司 |
地址 | 710071 陜西省西安市太白南路2號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種基于有機(jī)介質(zhì)的高性能AlGaN/GaN?HEMT開(kāi)關(guān)器件結(jié)構(gòu)及其制作方法,從下往上依次包括襯底、GaN緩沖層、AlN隔離層、GaN溝道層、AlGaN本征層和AlGaN摻雜層,所述AlGaN摻雜層上間隔設(shè)有源極、鈍化層1、ITO柵電極、有機(jī)絕緣層PTFE、鈍化層2和漏極,所述鈍化層1與有機(jī)絕緣層PTFE之間設(shè)有ITO柵電極,所述有機(jī)絕緣層上設(shè)有ITO電極2,所述有機(jī)絕緣層與漏極之間設(shè)有鈍化層2。本發(fā)明成功的減少了所控制部分的2DEG的濃度,且避免了對(duì)材料的晶格損傷,還利用了ITO的場(chǎng)板效應(yīng)大大增加了擊穿電壓的范圍,使得器件的性能有了較大幅度的提升。 |
