高占空比MEMS微鏡、微鏡陣列及制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111004154.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113820852A 公開(kāi)（公告）日 2021-12-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN113820852A 申請(qǐng)公布日 2021-12-21
分類(lèi)號(hào) G02B26/08（2006.01）I 分類(lèi) 光學(xué);
發(fā)明人 李偉;徐靜 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 安徽中科米微電子技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海光華專(zhuān)利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 盧炳瓊
地址 233000安徽省蚌埠市禹會(huì)區(qū)科創(chuàng)產(chǎn)業(yè)園5號(hào)廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種高占空比MEMS微鏡、微鏡陣列及制備方法，該MEMS微鏡的第一可動(dòng)梳齒、第一固定梳齒位于反射鏡硅層的下方，在實(shí)現(xiàn)兩個(gè)方向大角度偏轉(zhuǎn)的同時(shí)，提高了MEMS微鏡的占空比，有效減小了MEMS微鏡的體積。反射鏡硅層下方帶有加強(qiáng)筋結(jié)構(gòu)，有效改善了MEMS微鏡在靜止及運(yùn)動(dòng)過(guò)程中的表面平整度。此外，本發(fā)明的MEMS微鏡提供了包括雙面電極結(jié)構(gòu)在內(nèi)的多種電極引出形式，應(yīng)用時(shí)可以根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行選擇，更有利于MEMS微鏡及微鏡陣列的市場(chǎng)化應(yīng)用。本發(fā)明有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點(diǎn)而具有高度產(chǎn)業(yè)利用價(jià)值。