一種光學(xué)直角反射鏡及其制造方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201610038072.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN106986299B | 公開（公告）日 | 2021-03-09 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN106986299B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-09 |
| 分類號(hào) | B81C1/00(2006.01)I;B81B7/02(2006.01)I | 分類 | 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕; |
| 發(fā)明人 | 吳亞明;翟雷應(yīng);徐靜 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 安徽中科米微電子技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 余明偉 |
| 地址 | 233010安徽省蚌埠市禹會(huì)區(qū)冠宜大廈2號(hào)樓三層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N光學(xué)直角反射鏡及其制造方法，該方法用于在單晶硅基片上制造光學(xué)直角反射鏡，該方法包括：在基片的表面形成蝕刻掩模，所述蝕刻掩模具有使所述基片的表面露出的開口，所述基片是單晶硅片；對(duì)形成有蝕刻掩模的所述基片進(jìn)行濕法腐蝕，以形成刻槽，所述刻槽至少具有相互垂直的兩側(cè)壁，兩個(gè)所述側(cè)壁是硅(110)晶面，并且兩個(gè)所述側(cè)壁與所述基片表面夾角為45°；以及在所述刻槽的兩個(gè)所述側(cè)壁覆蓋光反射層，以在所述刻槽中形成直角反射鏡。根據(jù)本申請(qǐng)的方法制造直角反射鏡，其光學(xué)質(zhì)量好、精度高、體積小、成本低，并且可以方便制造陣列式的多槽直角反射鏡，從而獲得較大面積的直角反射鏡。?? |
