一種可調節(jié)內部支撐架的真空爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022168881.1 申請日 -
公開（公告）號 CN213687890U 公開（公告）日 2021-07-13
申請公布號 CN213687890U 申請公布日 2021-07-13
分類號 F27D7/06（2006.01）I;F27D1/18（2006.01）I;F27D99/00（2010.01）I;F27D1/00（2006.01）I;F27D5/00（2006.01）I 分類 爐；窯；烘烤爐；蒸餾爐〔4〕;
發(fā)明人 孔凡昌 申請（專利權）人 常州凡碩昌模具科技有限公司
代理機構 北京挺立專利事務所（普通合伙） 代理人 蔡宗慧
地址 213000江蘇省常州市鐘樓區(qū)新閘街道新冶路308號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種可調節(jié)內部支撐架的真空爐，包括爐蓋、主體、底座、反應箱和支架，所述主體的底端固定有底座，所述主體頂部的一端固定有抽氣孔，所述主體的一側鉸接有爐蓋，所述主體內部的底端固定有反應箱，所述反應箱內部的底端固定有支架，所述支架的頂端設置有調節(jié)結構，所述爐蓋的內側壁設置有隔熱結構。本實用新型通過在可調節(jié)內部支撐架的真空爐的爐蓋一側設置密封結構，能夠加強真空爐內部的密封性能，在對真空爐內進行真空處理的時候，防止空氣從爐蓋與主體閉合處存在的縫隙處進入真空爐的內部，保障了真空爐內部的真空效果，從而使得加工出來材料的性能更加優(yōu)良，提升了整體的加工質量，優(yōu)化了整體的使用性能。