一種防滲漏式高分子真空配氣裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122698005.4 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN216092547U 公開（公告）日 2022-03-22
申請公布號(hào) CN216092547U 申請公布日 2022-03-22
分類號(hào) B01D33/15（2006.01）I;B01D33/80（2006.01）I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 康德增;王天彬;王春波;姜迎春 申請（專利權(quán)）人 核工業(yè)煙臺(tái)同興實(shí)業(yè)集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京中濟(jì)緯天專利代理有限公司 代理人 潘劍敏
地址 264000山東省煙臺(tái)市棲霞經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)C區(qū)（松山）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型屬于脫水機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種防滲漏式高分子真空配氣裝置，包括脫水機(jī)本體、固定螺桿，所述脫水機(jī)本體上設(shè)置有瓦座，所述瓦座上固定連接有瓦座插銷，所述瓦座插銷的外側(cè)滑動(dòng)連接有分配頭，所述固定螺桿上設(shè)置有彈簧部件，所述固定螺桿的外側(cè)設(shè)置有彈簧，所述彈簧的一端接觸有彈簧部件，所述彈簧的另一端接觸有分配頭，所述分配頭上設(shè)置有錯(cuò)氣盤主盤，所述分配頭上設(shè)置有錯(cuò)氣盤副盤。本實(shí)用新型通過在錯(cuò)氣盤主盤上設(shè)置有凸臺(tái)和在錯(cuò)氣盤副盤上設(shè)置有凹槽，使凸臺(tái)與凹槽扣和在一起，就會(huì)形成一個(gè)密閉空間，水就不會(huì)流出，解決了脫水機(jī)的高分子真空配氣裝置的高分子分配頭漏水、噴水的問題。