缺陷檢測方法、裝置、設(shè)備及可讀存儲介質(zhì)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110800459.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113256635A | 公開(公告)日 | 2021-08-13 |
申請公布號 | CN113256635A | 申請公布日 | 2021-08-13 |
分類號 | G06T7/00;G06T7/60;G06T7/73;G06T7/90;G06T3/40 | 分類 | 計(jì)算;推算;計(jì)數(shù); |
發(fā)明人 | 劉曉龍 | 申請(專利權(quán))人 | 武漢中導(dǎo)光電設(shè)備有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 武漢智權(quán)專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 韓夢晴 |
地址 | 430000 湖北省武漢市武漢經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)高科技產(chǎn)業(yè)園16號樓4樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種缺陷檢測方法、裝置、設(shè)備及可讀存儲介質(zhì),缺陷檢測方法包括:采集不同制程工藝與尺寸的玻璃基板的圖像,將圖像進(jìn)行預(yù)處理;將經(jīng)過預(yù)處理后的圖像按特征點(diǎn)對位拼接,得到各個(gè)不同制程工藝與尺寸對應(yīng)的高分辨率圖像;計(jì)算各個(gè)高分辨率圖像上所有外圍電路區(qū)域中像素點(diǎn)的灰度值的平均值和中位值得到各個(gè)不同制程工藝與尺寸玻璃基板對應(yīng)的數(shù)值范圍;根據(jù)待檢測的玻璃基板選取相同制程工藝與尺寸對應(yīng)的目標(biāo)數(shù)值范圍;若待檢測的玻璃基板圖像存在至少一個(gè)處于外圍電路區(qū)域的目標(biāo)像素點(diǎn)的灰度值不處于所述目標(biāo)數(shù)值范圍內(nèi),則待檢測的玻璃基板有缺陷。通過本發(fā)明能適用于不同制程工藝的復(fù)雜外圍電路區(qū)的缺陷檢測,簡化了參數(shù)設(shè)置。 |
